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Sai quali sono le applicazioni del target di sputtering al tantalio?

2024-01-05 18:00:06

Obiettivi di sputtering di tantalio sono un tipo di materiale utilizzato nel processo di sputtering per depositare sottili pellicole di tantalio su substrati. Il processo di sputtering prevede il bombardamento di un materiale bersaglio con ioni ad alta energia, che espellono gli atomi dalla superficie del bersaglio. Questi atomi espulsi si depositano poi sul substrato, formando una pellicola sottile.

 

I target di tantalio sputtering vengono utilizzati in varie applicazioni industriali per la deposizione di film sottili di tantalio su substrati. Le applicazioni principali includono:

 

1. Industria dei semiconduttori: è ampiamente utilizzato nell'industria dei semiconduttori per la deposizione di film sottili di tantalio su wafer di silicio. Questi film vengono utilizzati come barriere alla diffusione, nonché per la fabbricazione di condensatori e altri componenti elettronici.

 

2. Rivestimenti duri: viene utilizzato per depositare rivestimenti duri su utensili da taglio, parti di macchine e altre superfici che richiedono un'eccellente resistenza all'usura.

 

3. Rivestimenti decorativi: viene utilizzato nella produzione di rivestimenti decorativi su vetro, ceramica e altri materiali. Questi rivestimenti forniscono un aspetto esclusivo e migliorano la resistenza ai graffi della superficie.

acquistare obiettivi per sputtering di tantalio

4. Celle solari: vengono utilizzate per depositare sottili pellicole di tantalio sulle celle solari. Questi film migliorano l'efficienza delle celle e forniscono una barriera protettiva contro i fattori ambientali.

 

5. Dispositivi medici: viene utilizzato per produrre rivestimenti biocompatibili su impianti medici, come pacemaker, protesi d'anca e impianti dentali. Questi rivestimenti migliorano la durata e la biocompatibilità degli impianti.

 

I bersagli al tantalio sono realizzati in tantalio di elevata purezza e sono generalmente disponibili in varie forme e dimensioni, tra cui cilindrici, rettangolari e circolari. La dimensione e la forma del target dipendono dallo specifico sistema di sputtering utilizzato e dalla dimensione del substrato da rivestire.

 

Nel complesso, gli obiettivi di sputtering del tantalio sono un componente critico in molti settori, dove è richiesta la deposizione di film sottile e sono necessarie le proprietà ad alte prestazioni del tantalio.

 

 

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